美、荷、日三國據報達成了限制中國取得晶片製造設備的協議

據 Bloomberg 報導，美國已經與荷蘭、日本兩國達成了協議，進一步限制中國取得晶片製造設備。兩國將比照美國限制 NVIDIA 在中、俄販售產品的模式，進行出口管控，讓 ASML、Nikon 等公司的光刻設備出口受到更嚴格的限制。

依 Bloomberg 的說法，美、荷、日三方都不會公開該協議，且各國都還有內部的法律問題要解決，因此實務上可能還要「數個月」的時間才能開始施行。荷蘭總理 Mark Rutte 在接受提問時表示，該國與美國之間的對談已經「進行很長的時間」，但該國「不會公開討論進度」。如果真的談出了結果的話，是否會公開「也不確定」。

這當中，最重要的無疑就是究竟對於荷商 ASML 的光刻機限制到什麼程度。ASML 是全球唯一能提供極紫外線（EUV）光刻機的廠商，為當前 5nm 與 3nm 製程技術的必要條件。但如果只握有稍舊技術的日本 Nikon 也在限售之列的話，那三國間對於中國的技術封鎖恐怕並不止於最新的 EUV 機種了。

中國主力的晶片製造商中芯國際（SMIC）據傳已經開始量產 14nm 晶片，並且成功以舊光刻技術實現了 7nm 的試產。不過，在無法取得新一代光刻機的前提下，SMIC 還能向前推出多遠就很難說了，畢竟當前的先進晶片生產是由美、荷、台、日、韓以超高的資本與技術門檻聯合壟斷，當中光是台積電一間公司去年的資本支出就高達 360 億美元。雖然說中國在過去 10 年對芯片產業挹注超過 1,000 億美元，但相較於台積電一間公司都是杯水車薪，更不要說晶片製造的上下游各環節了。SMIC 據稱已經在打造「5nm 等級」的晶片，不過在沒有 EUV 光刻機的前提下，其實際效果及良率是否有競爭力，還是要打個問號的。